硅片清洗

發(fā)布時間：2023-08-20

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硅片清洗是一項重要的工藝步驟，用于去除表面的雜質(zhì)和污染物，保證硅片的純凈度和表面平整度。以下是常用的硅片清洗方法：

1. 雪花清洗機清洗：利用液體二氧化碳低溫的特性使硅片表面贓物剝離。

2. 酸堿清洗：先使用弱堿性溶液（如濃度為2%的氨水）浸泡硅片，去除有機污染物；接著使用弱酸性溶液（如濃度為2%的鹽酸）進行浸泡清洗，去除金屬離子等無機污染物。

3. 超聲波清洗：將硅片浸泡在清洗液中，通過超聲波震蕩產(chǎn)生微小氣泡，從而加速清洗劑的滲透和溶解效果，達到清潔表面的目的。

4. DI水清洗：使用高純度的去離子水（DI水）對硅片進行沖洗，去除殘留的清洗劑和離子雜質(zhì)。

5. 氮氣吹掃：用純凈的氮氣對硅片進行吹掃，去除水分和顆粒物。

6. 高溫烘干：將清潔后的硅片置于恒溫烘箱中，進行高溫烘干，以確保表面干燥和無殘留物。

需要注意的是，在清洗硅片時要避免使用含有大量金屬離子、有機物或顆粒物的清洗劑，以免對硅片表面造成二次污染或損壞。同時，在清洗過程中要嚴格控制工藝參數(shù)，確保清洗效果達到要求。

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