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半導(dǎo)體表面灰塵清洗方法

發(fā)布時(shí)間:2023-04-19
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                 液態(tài)二氧化碳清洗設(shè)備清洗半導(dǎo)體激光芯片前后對(duì)比
 
 
半導(dǎo)體表面灰塵清洗是非常關(guān)鍵和極其重要的步驟,因?yàn)楸砻娴幕覊m可能會(huì)降低芯片的電性能和可靠性。以下是常用的半導(dǎo)體表面灰塵清洗方法:
 
1. 空氣吹掃:使用高壓空氣吹掃表面的灰塵,這是一種快速和便捷的清洗方法,但要注意吹洗的壓力和方向不要對(duì)芯片造成任何傷害。
 
2. 液態(tài)二氧化碳清洗:俗稱雪花清洗,屬于干式清洗,利用液態(tài)二氧化碳低溫和爆破的特性,通過壓縮空氣將液態(tài)二氧化碳噴射的半導(dǎo)體表面,清洗能力優(yōu)于直接空氣吹掃,因?yàn)橐簯B(tài)二氧化碳噴射后直接生化,亦不會(huì)產(chǎn)生二次污染,所以適合用來清洗不適合用化學(xué)方式清洗的產(chǎn)品。
 
3. 離子清洗:通過離子束清洗、離子轟擊等技術(shù)將表面的灰塵和有機(jī)物質(zhì)清洗干凈,該方法可以清除芯片表面10納米以內(nèi)的灰塵。
 
4. 溶液清洗:將芯片表面浸泡在溶液中,如高純度酒精或去離子水中進(jìn)行清洗。需要注意的是,要選擇合適的溶液,不能使用會(huì)導(dǎo)致表面損壞或化學(xué)反應(yīng)的溶液。
 
5. 超聲波清洗:將芯片放入超聲波清洗器中進(jìn)行清洗,利用超聲波的磨擦作用去除表面的灰塵,該方法適用于灰塵比較輕薄的情況。
 
需要指出的是,以上清洗方法只能選擇其中一種或者多種組合使用,具體的選擇因半導(dǎo)體產(chǎn)品情況而異。在清洗過程中,要注意保持清洗空間的潔凈和干燥,以免對(duì)產(chǎn)品造成二次污染。
 
 
 
 
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